Une collaboration entre le groupe des matériaux et dispositifs électroniques et magnétiques de CNM et la division des systèmes énergétiques d'Argonne a conduit à une toute nouvelle façon de fabriquer des nanomatériaux fonctionnels bidimensionnels et tridimensionnels.

Leur approche combine l'auto-assemblage de copolymères séquencés avec le processus auto-limitant et sélectif de dépôt de couche atomique.

En choisissant des polymères appropriés et des précurseurs chimiques de dépôt, un dépôt hautement sélectif peut être obtenu dans lequel le matériau inorganique croît à l'intérieur d'un seul des blocs polymères.

Par la conception rationnelle des copolymères à blocs et la sélection des paramètres de dépôt, matériaux de créateurs à motifs avec une taille contrôlée, espacement, symétrie, et la composition peut être synthétisée.

Les applications potentielles de cette méthode s'étendent à pratiquement toutes les technologies dans lesquelles des structures périodiques de nanomatériaux sont souhaitables.