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    Les chercheurs obtiennent de la silice fondue avec un seuil de dommage élevé en combinant la gravure chimique et le polissage laser

    (a) Schéma d'un système de polissage laser. (b) Évolution de la morphologie de la surface au cours du processus combiné. Crédit :SIOM

    Dégâts laser dans la silice fondue, en particulier les dommages causés par les lasers ultraviolets, reste un problème clé limitant le développement de systèmes laser de forte puissance. La méthode de traitement traditionnelle de la silice fondue passe par les processus de meulage et de polissage mécano-chimique (CMP). Cette méthode prend du temps pour obtenir une surface ultra-lisse, et est facile à provoquer des défauts de surface et de sous-surface, résultant en une réduction significative du seuil d'endommagement de surface de la silice fondue.

    Récemment, une équipe de recherche de l'Institut d'optique et de mécanique fine de Shanghai de l'Académie chinoise des sciences a combiné la gravure chimique et le CO 2 polissage laser pour traiter la silice fondue broyée. Une gravure chimique a été utilisée pour ouvrir les défauts souterrains de la silice fondue broyée. Ensuite, CO 2 un polissage au laser a été appliqué pour réduire la rugosité de la surface.

    Ce processus combiné permet non seulement d'obtenir efficacement une surface super lisse avec une faible rugosité de surface, mais peut également améliorer la résistance aux dommages de la silice fondue. Ce travail a été publié dans le Lettres d'optique .

    Grâce à la morphologie des dommages et à l'analyse des défauts, il a été démontré que le processus combiné évite l'introduction de défauts de surface et de sous-surface, y compris les défauts destructeurs, défauts de structure chimique, et des éléments d'impureté mentale photoactifs, et obtenir de la silice fondue avec une densité de défauts de surface inférieure, obtenant ainsi une meilleure résistance aux dommages.


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